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全封閉顯影機

簡要描述:全封閉顯影機主要用于半導體制造中晶片的顯影工藝,性價比高,穩定性好,重復性好,對顯影作業有非常理想的效果。設備配有一路顯影和一路水、一路氣吹功能,并且噴嘴位置可程控移動,實現自動顯影和清洗作業。

  • 產品型號:DM200-SE
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新日期:2024-09-23
  • 訪  問  量:2318
  全封閉顯影機優勢
 
  ·全封閉式顯影,避免霧氣擴散到外部,污染環境。
 
  ·外殼噴塑,耐腐蝕,易清洗。
 
  ·內腔鍍特氟龍,光滑,耐腐蝕,易清洗。
 
  ·內置真空過濾器,防止液體吸入真空泵。
 
  ·真空壓力可調,壓力值實時顯示。
 
  ·液體流量可調,回吸可調。
 全封閉顯影機
  全封閉顯影機參數
 
  支持wafer尺寸:碎片至200mm(8"圓晶)
 
  ·轉速分辨率:±1 RPM
 
  ·旋涂速度:20-3000rpm(空載)
 
  ·旋涂加速度:10-10,000rpm/sec(空載)
 
  ·工藝時間設定: 0-3,000sec/step,時間設置精度: 0.1sec
 
  ·該機型適用于標準3路顯影機(1路洗衣液,1路純水,1路氮氣)
 
  ·單步工藝及多步工藝可選,內置100組可編輯程序
 
  ·可根據客戶需求定制四管路顯影機或更大基片的顯影機。
 
  設備配有一路顯影和一路水、一路氣吹功能,并且噴嘴位置可程控移動,實現自動顯影和清洗作業。
 
 

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